部會博會與內議衝突，頭缺光刻機巨席進

　　（文/湯普濟 編輯/呂棟）

　　本屆進博會，内部自2020年以來連續六次出席的冲突荷蘭光刻機製造商ASML沒有參展。據觀察者網了解，光刻ASML給出的机巨理由是，缺席的头缺原因是與公司內部全球會議時間衝突。

　　此前多年，席进ASML曾通過設備模型、内部視頻、冲突虛擬晶圓廠等方式展示其全景光刻解決方案。光刻雖然今年沒有ASML的机巨展台，但國產光刻裝備並未缺席。头缺

　　觀察者網在現場發現，席进國產光刻裝備製造商上海微電子裝備（集團）股份有限公司（SMEE）帶來了新一代前道幹式掃描投影光刻機SSC800、内部SSB800的冲突模型，展示我國前道光刻裝備自主研發的光刻階段性成果。

　　此次展出的模型采用透明剖視設計，可以直觀看到設備內部的光學光路和機電係統布局。上海微電子介紹，該平台適配I-line和KrF兩類技術路線，整機核心的高精度物鏡與照明係統、高速雙工件台與掩模台、自動物料傳輸係統以及對準調平傳感係統，均實現全鏈條自主可控。

　　光刻機是芯片製造前道工藝中的關鍵設備，主要作用是將掩模版上的電路圖案通過光學係統投影到塗有光刻膠的晶圓上，再經過顯影、刻蝕等工序，逐層形成芯片內部的電路結構。

　　此次展示的兩類技術路線中，I-line采用365納米紫外光源，KrF則采用248納米準分子激光光源。據上海微電子官網介紹，SSC800係列KrF掃描投影光刻機麵向110納米及以上製程需求，重點服務於高性能計算、高密度存儲、微處理器等領域；SSB800係列I-line光刻機則麵向280納米及以上工藝，主要應用於功率半導體、模擬集成電路和MEMS等成熟製程領域。

　　上海微電子表示，目前其前道幹式光刻機關鍵零部件國產化率已超過90%，多台設備在國內頭部邏輯和存儲芯片生產線上長期穩定運行，累計支持產線流片超過1000萬片，設備有效運行率超過92%。

　　成立於2002年的上海微電子，是國內前道光刻裝備製造的重要企業。公司此次披露，其也是國內唯一具備前道幹式光刻機穩定量產交付能力的製造商。除前道光刻設備外，公司業務還覆蓋先進封裝、平板顯示等領域，先進封裝光刻機也是其重要產品之一。

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